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半导体器件 微机电器件 晶圆间键合强度测量 Semiconductor devices—Micro-electromechanical devices—Wafer to wafer bonding strength measurement
发布日期: 2022-10-12
实施日期: 2022-10-12
本文件规定了晶圆键合后键合强度的测量方法,适用于硅-硅共熔键合、硅-玻璃阳极键合等多种晶圆键合方式,以及 MEMS工艺、组装流程中相关结构尺寸的键合强度的评估。本文件适用于从十微米到几毫米厚的晶圆间的键合强度测量
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